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台積電導入乾式光罩潔淨技術 創20億元效益

【記者張原彰/臺東報導】台積電持續精進製程,自107年起導入乾式極紫外光(EUV)光罩潔淨技術,解決無保護膜EUV光罩的落塵問題,今年成功使落塵削減率超過99%,累計創造新台幣20億元改善效益。

台積電的EUV微影製程光罩技術,是推動5奈米製程的關鍵技術,而依製程需求,EUV微影製程光罩分為有保護膜及無保護膜兩種,台積電選用無保護膜的EUV光罩,提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗。

但是無保護膜EUV光罩會發生落塵問題,台積電品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織,自107年起共同開發落塵分析技術,並研發出乾式EUV光罩潔淨技術。

這項技術可透過乾式技術快速去除落塵,取代需要使用純水與化學品的溼式清潔手法;同時以次奈米級分析技術精準定位落塵來源,從根本排除汙染源。

據統計至109年,台積電成功使落塵削減率超過99%。由於該項技術的導入,大幅縮短光罩保修頻率與時間,使光罩使用率躍升超過80%,並延長先進製程EUV光罩壽命,累計創造的改善效益達20億元。