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艾司摩爾曝光機 美擬全面禁輸中

美國勞倫斯利佛摩國家實驗室的極紫外光微影製程。示意圖。(LLNL)
美國勞倫斯利佛摩國家實驗室的極紫外光微影製程。示意圖。(LLNL)

【記者高杉/編譯】傳美國國會擬禁止荷蘭艾司摩爾(ASML)公司向中共出售幾乎所有晶片製造設備,包括較舊款的DUV(深紫外光)設備,已交付設備的維修服務也可能被封殺。

據荷蘭媒體NU.nl上週六(8月22日)報導,美國國會正在審議「晶片出口管控法案」(MATCH Act),擬將過去對盟友提出的無強制力的建議,轉化為具有直接強制力的具體措施,迫使盟友在敏感科技出口政策上與美方同步。

一旦法案通過,艾司摩爾目前可以出口的DUV曝光機也將被禁售,甚至會停止已交付設備的維修保養服務。如果荷蘭拒絕配合,美方可制裁荷蘭。美方希望藉此限制中共獲取先進晶片的管道,從而遏制中共軍事科技的進展。

艾司摩爾是全球唯一能夠生產最先進晶片製造設備的企業。在美方壓力下,荷蘭政府已限制艾司摩爾向北京出售最先進的EUV(極紫外光)曝光機,及較先進版本的DUV曝光機。

法案漏洞:美企可以賣設備

值得注意的是,法案有一項引發爭議的漏洞:在艾司摩爾面臨禁售令的同時,美國企業仍可獲准向中國客戶出售最先進的晶片蝕刻設備。

而據媒體披露,中方已經發現並利用先進蝕刻技術搭配DUV曝光機,製造出通常需EUV曝光機才能生產的高階晶片。美國政府2024年就已限制此類設備出口,但當時並未實施全面出口禁令。

報導指出,荷蘭政府官員正在華盛頓遊說,希望阻止該法案過關,但成功機會似乎不高。由於共和黨、民主黨均支持這項提案,該法案正被納入美國國防預算案,而國防預算案幾乎每年都能在國會通過。

此外,艾司摩爾自身的生產也高度依賴美國供應商。美國曾以艾司摩爾供應鏈為條件,成功促使荷蘭政府收緊產品輸中,這也是荷蘭在此輪交鋒中底氣不足的原因之一。◇

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