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一名在日本工作的中國籍研究員週四（6月15日）被日本警方逮捕，他涉嫌向一家中國公司洩露商業機密。
日本共同社報導，這名59歲的中國男子是茨城縣築波市日本國立研究機構「產業技術綜合研究所」（AIST）的一名中國籍研究員。他洩漏有關氟化物合成的尖端技術資料給中國企業，涉嫌違法。
據接近警視廳公安局的消息人士透露，這名中國籍研究員涉嫌違反《防止不正當競爭法》（Unfair Competition Prevention Law）。
日本媒體報導，日本警方因國家機構資料外洩給中國，而逮捕嫌犯實屬罕見。
2018年4月，據信這名男子將他在AIST研究的氟化合物先進合成技術，透過電子郵件傳給一家中國企業。
該男子自2002年4月起在AIST擔任研究員。消息人士說，有一段時間他還在北京理工大學任教，北京理工大學是中共軍方下屬的「國防七子」之一。這七所大學已經全部因「國家安全之憂」被列入美國商務部的制裁清單。
史丹佛大學智庫胡佛研究所，在2020年7月30日的報告指出，證據表明來自中國軍校的研究員一直試圖隱瞞他們與中共國防機構之間的聯絡，「與此同時，一些中方論文合著者實際上參與過中共祕密武器研究計畫」。
日本當局正在調查這名中國籍研究員與涉案中國公司之間的關係，及這些資訊如何外洩。警方週四進行了相關搜查，包括男子在築波的住所。
日本《防止不正當競爭法》旨在促進公平競爭，禁止不當取得或公開企業研發的商業機密。近年來日本政府出於保護經濟安全，正加強防範尖端技術洩漏至海外。
另據《金融時報》報導，本週二（6月13日），一名65歲的三星電子前高層主管在韓國被捕及起訴，罪名是涉嫌竊取三星的技術，以便在中國建立晶片廠。◇
