台積電4工程師洩2奈米機密最重判10年 設備商罰1.5億

【記者袁世鋼、張原彰／綜合報導】台積電4名前工程師，被控竊取2奈米先進製程核心營業秘密，外流給蝕刻機供應商東京威力科創公司，智慧財產法院27日依違反《國家安全法》、《營業秘密法》等罪，判處2年至10年不等刑期；東京威力罰金1.5億元、緩刑3年，條件是支付台積電、國庫各1億元、5千萬元。

檢方起訴指出，從台積電跳槽至東京威力擔任行銷及產品經理的前工程師陳力銘，為替東京威力爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，自2023年下8月起至隔年5月間，多次請託當時在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平幫忙，要求二人以公司筆電登入系統，開啟製程或實驗結果等關鍵技術與營業秘密，以手機翻攝後回報東京威力。

檢調也查出，另名時任台積電工程師陳韋傑，更曾直接拍攝、重製機密資料傳給陳力銘；由陳力銘上傳至東京威力的雲端硬碟中，而東京威力高階主管盧怡尹竟於案發後刪除資料，涉嫌湮滅證據。檢方清查，東京威力硬碟內仍存有台積電「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」。此外，檢方認定東京威力對陳力銘負有監督責任，追加起訴。

智慧財產及商業法院審酌，陳力銘為求工作表現而犯5案，造成台積電營業秘密可能外流的危險，並危及產業國際競爭力與國家經濟安全；考量台積電具狀表明東京威力屬是其半導體製造設備供應商的在台服務公司，並非競爭對手，營業秘密均未洩漏給東京威力以外的第三方，依一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪等5罪，判刑10年。

陳韋傑部分，智商法院指出，他擅自重製的營業秘密屬於14埃米製程的機密資訊，為台積電半導體製程從「奈米」邁「埃米」時代的先進技術節點，乃延續並保持在全球最先進製程領導地位的關鍵，因迄今未取得台積電諒解，加上他僅坦承客觀事實，依國安營業秘密之意圖域外使用罪判刑6年。

此外，吳秉駿、戈一平分別被判刑3年、2年；盧怡尹犯湮滅刑事證據罪，判刑10月，緩刑3年，需支付公庫新台幣100萬元，參加法治教育課程6場次。至於東京威力公司，遭判罰金1.5億元，法官考量，東京威力承認犯罪，積極配合偵查，並偕同母公司日商東京威力株式會社與台積電達成和解，宣告緩刑3年，條件是支付台積電、國庫各1億元、5千萬元。